ООО «ИЦ МН» специализируется на производстве оборудования и технологий для молекулярного наслаивания (ALD технологии)
Технология молекулярного наслаивания разработана в 1960-х годах В.Б. Алесковским и С.И. Кольцовым в ЛТИ им. Ленсовета.
В западных странах технология начала развиваться только в конце 1970-х годов, через 20 лет после исследований в СССР.
Дальнейшее развитие технологии молекулярного наслаивания (ALD технологии) было проведено учениками: А.А. Малыгиным, В.М. Смирновым, А.А. Малковым, Е.П. Смирновым и др.
ООО «ИЦ МН» продолжает развитие технологии молекулярного наслаивания (ALD технологии) на новом уровне:
Получено заключение Минпромторга о подтверждении производства промышленной продукции на территории Российской Федерации (ПП РФ №719)
Оборудование серии «УМН» — высокотехнологичное оборудование, разработанное для синтеза функциональных нанопленок на различных трехмерных изделиях и пластинах методом молекулярного наслаивания (АСО, ALD)
Объем реакционной камеры - 30 л,
Температура подложки во время процесса до 250 °С,
Тип подложки: Пластины, 3D объекты, объекты с большой удельной поверхностью
Диаметр пластины - 150 мм,
Температура подложки во время процесса до 250 °С,
Тип подложки: Пластины
Заливные азотные ловушки используются для предотвращения попадания паров рабочей жидкости, которая используется в насосах, в вакуумную систему / камеру.
Вакуумметр МВАК-01 со встроенным контроллером предназначен для измерения пониженного давления в диапазоне низкого и среднего вакуума от 1,0×10-1 до 1,0×105 Па. Разработан в рамках ПП РФ 1649.
4 этапа представляют собой один цикл. Требуемая толщина пленки достигается путем повторения цикла необходимое количество раз
В основе исследования свойств продуктов молекулярного наслаивания (ALD технологии) применительно к материалам различного функционального назначения заложены фундаментальные структурно-размерные эффекты и подходы на их основе: